化学气相堆积设备 沈阳鹏程真空技巧公司 化学气相堆积设备供给

 
单价: 面议
地点地: 辽宁 沈阳市
有效期至: 经久有效
最后更新: 2020-02-14 14:18
信息编号: 23433313
 
公司根本材料信息
详细简介





化学气相堆积的特点

化学气相堆积法之所以取得生长,是和它本身的特点分不开的,其特点以下。

I) 堆积物种类多: 可以堆积金属薄膜、非金属薄膜,也能够按请求制备多组分合金的薄膜,化学气相堆积设备定做,和陶瓷或化合物层。

2) CVD反响在常压或低真空停止,镀膜的绕射性好,关于外形复杂的外面或工件的深孔、细孔都能均匀镀覆。

3) 能取得纯度高、致密性好、残余应力小、结晶优胜的薄膜镀层。由于反响气体、反响产品和基体的相互分散,可以取得附出力好的膜层,这对外面钝化、抗蚀及耐磨等外面加强膜是很重要的。

4) 由于薄膜发展的温度比膜材料的熔点低很多,由此可以取得纯度高、结晶完全的膜层,这是有些半导体膜层所必须的。

5) 应用调理堆积的参数,可以有效地控制覆层的化学成分、描写、晶体构造和晶粒度等。

6) 设备简单、操作维修便利。

7) 反响温度太高,普通要850~ 1100℃下停止,很多基体材料都耐受不住CVD的高温。采取等离子或激光帮助技巧可以降低堆积温度。

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化学气相堆积法在金属材料方面的应用

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化学气相堆积法临盆金属铱高温涂层从20世纪80年代起,NASA 开端测验测验应用金属无机化合物化学气相堆积法制取出应用铼基铱作为涂层的复合喷管,化学气相堆积设备,并取得了成功,这时候化学气相堆积法在临盆金属涂层范畴才有了必定程度上的冲破。

NASA 应用了C15H21IrO6作为制取铱涂层的材料,化学气相堆积设备发卖,并应用 C15H21IrO6的热分化反响停止堆积。铱的堆积速度很快,可以达到3~20μm/h。 堆积厚度也达到了50μm,C15H21IrO6的制取效力高达 70%以上。



化学气相堆积技巧在材料制备中的应用

化学气相堆积技巧临盆多晶/非晶材料膜:

化学气相堆积法在半导体工业中有着比较广泛的应用。比如作为缘介质隔离层的多晶硅堆积层。在现代,微型电子学元器件中愈来愈多的应用新型非晶态材料,这类材料包含磷硅玻璃、硼硅玻璃、SiO2和 Si3N4等等。另外,也有一些在将来有能够生长成开关和存储记忆材料,例如氧化铜-氧化铜等都可以应用化学气相堆积法停止临盆。

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